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    4. 產品展示
      皮膚科準分子氣體
      皮膚科準分子氣體


       作為較先進的治療白癜風、牛皮癬,白斑病的儀器技術,最初是美國發明的,作為較先進的治療白癜風和牛皮癬,用于皮膚科臨床治療的308 nm準分子激光是準分子激光的一種,即氯化氙(XeCl)準分子激光,屬連續的脈沖氣體激光,其波長在UVB范圍內,脈沖寬度一般為l0~30 ns左右。臨床上治療用的激光發射器有Xtrac ( PhotoMedex,USA ) [ 4~6 ]、Lambda Physics LPX105E[ 2, 3, 7, 8 ]以及其他類型的發射器[ 9 ] ,常包括XeCl氣體系統,由于XeCl二聚體由惰性氣體氙(最外層有8個電子)和鹵素氯(最外層有7個電子)組成,在電流激活時以結合狀態存在,而發出脈沖式激光。不同的激光發射器參數略有不同,以Xtrac AL7000為例,其所發308 nm 激光脈寬為30 ns,重復頻率為154 Hz,單脈沖能量密度為2~3 mJ / cm2 ,采用液體光導光纖傳輸激光,可形成2 cm ×2 cm的方形光斑,在治療過程中可根據需要調整光斑或選擇合適的劑量以達到較佳治療效果。在臨床用各型激光發射器均操作方便,操作者可以手持發射,手柄僅在皮損上移動,均勻照射所有皮損,也可固定于一個部位照射一段時間后,移至臨近部位。


      激發308 nm準分子激光的重要耗材為XeCl預混氣體,其實質是Xe,HCl,Ne等氣體針對特定的品牌和機型按特定的比例預混的。目前PUREGAS可以提供幾乎市場上所有品牌的皮膚科準分子激光設備所用的XeCl預混氣體


      PUREGAS準分子激光預混氣的優點:

      采用高1級別純度的原料氣體

      采用自動化氣體預混系統配制,有效降低人為因素影響

      包裝鋼瓶采用特有的的鈍化技術,有效保證微量HCl,的比例.保證可靠的穩定性

      提供專1業的一體化服務,包括所有皮膚科準分子設備的換氣和維修服務!









      21微加工準分子激光預混氣


      工業技術的升級轉型需要平衡日益增長的性能需求與加工速度及制造成本之間的矛盾。準分子激光的誕生,以其高光子能量所稱著,在對突破材料限制需求越來越迫切的時代,準分子激光器再次站在了尖端工業激光解決方案的最前沿。作為當今最有效、最可靠的脈沖紫外激光技術的代表,準分子激光器有效地推進了諸如半導體、AMOLED平板顯示、薄膜、硅底板加工、有機金屬沉淀、高溫超導、刻蝕、材料研究、汽車制造、生物醫療、光纖、鉆石打標設備及可替代能源等多種成長型工業中的技術革新。準分子激光氣體是用于準分子激光設備中的激光發生器的關鍵氣體


      常見的準分子激光氣體和波長相關:

      可用波長

      193 nm

      ArF

      248 nm

      KrF

      308 nm

      XeCl

      450nm~520nm

      XeF


         

      而具體的配比和包裝物和準分子激光設備的品牌和型號相關:


      品 牌

      機 型

      波 長

      準分子激光氣體

      ATL

      ATL ARF-1

      193 nm

      F2,Ar,Xe,Ne

      ATL KRF-1

      248 nm

      F2,Kr,Xe,Ne

      TUI

      CTFTS-ARFV 2.2

      193 nm

      F2,Ar,He,Ne

      CTFTS-KRFV 2.1

      248 nm

      F2,Kr,He,Ne

      CTFTS-KRFV 2.2

      248 nm

      F2,Kr,He,Xe,Ne

      CTMD-ARFV 2.0

      193 nm

      F2,Ar,He,O2,Ne

      CTMD-XECLV 2.1

      308 nm

      HCl,H2,Xe,Ne

      CTMN-ARFV 2.0

      193 nm

      F2,Ar,He,Ne

      CTMN-ARFV 2.1

      193 nm

      F2,Ar,He,Ne

      CTMN-KRFV 1.0

      248 nm

      F2,Kr,He,Ne

      CTMN-KRFV 2.0

      248 nm

      F2,Kr,He,Ne

      CTMN-XECLV 2.0

      308 nm

      HCl,H2,Xe,Ne

      CTMN-XECLV 5.0

      308 nm

      HCl,H2,Xe,Ne

      CTMN-XEFV 1.1

      450nm~520nm

      F2,Xe,He,Ne

      CTMN-XEFV 1.2

      450nm~520nm

      F2,Xe,He,Ne

      GAM Laser

      EX5 ArF

      193 nm

      F2,Ar,He,O2,Ne

      EX5 KrF

      248 nm

      F2,Kr,He,Ne

      EX5 XeCl

      308 nm

      HCl,H2,Xe,Ne

      EX10

      193 nm

      F2,Ar,He,Ne

      EX50

      193 nm

      F2,Ar,He,Ne

      EX100

      193 nm

      F2,Ar,He,Ne

      Photomedex

      XeCl

      308 nm

      HCl,Xe,Ne

      Photoscribe

      ArF

      193 nm

      F2,Ar,Ne

      KrF

      248 nm

      F2,Kr,Ne

      PotomacPhotonics

      ArF

      193 nm

      F2,Ar,Ne

      KrF

      248 nm

      F2,Kr,Ne

      Spectranetics

      XeCl

      308 nm

      HCl,H2,Xe,Ne



      PUREGAS 只需要您提供所用激光設備的品牌型號和輸出激光的波長,就可以為您提供所需的特定配比的準分子預混氣體!


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