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    4. 電子氣體Electronic Gases
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      半導體工業用的氣體統稱電子氣體(Electronic Gases)。按其門類可分為純氣,高純氣和半導體特殊材料氣體三大類。特殊材料氣體主要用于外延,摻雜和蝕刻工藝;高純氣體主要用作稀釋氣和運載氣。電子氣體是特種氣體的一個重要分支。電子氣體按純度等級和使用場合,可分為電子級,LSI(大規模集成電路)級,VLSI(超大規模集成電路)級和ULSI(特大規模集成電路)級

       

      供氣方式主要有三種:

       

          大規模供氣系統

      大規模供氣系統主要針對大規模量產的8-12英寸(1英寸=25.4毫米) 超大規模集成電路廠(氣體種類包括SiH4、N2O、2、 C2F6、 NH3等),100MW以上的太陽能電池生產線(氣體種類包括NH3),發光二極管的磊晶工序線(氣體種類包括NH3)、5代以上液晶顯示器工廠(氣體種類包括4、3、NF3)、光纖(氣體種類包括SiCl4)、硅材料外延生產線(氣體種類包括HCL)等行業。它們的投資規模巨大,采用最先進的工藝制程設備,用氣需求量大,對穩定和不間斷供應、純度控制和安全生產提出最嚴格的要求。

       

      常規供氣系統

      常規供氣系統主要應用于4-6英寸 大規模集成電路廠,50MW以下的太陽能電池生產線,發光二極管的芯片工序線以及其它用氣量中等規模的電子行業。它們的投資規模中等,生產線可能是二手設備,對氣體純度控制的要求不苛刻,系統配備在滿足安全的前提下盡量簡單,節省投資。

       

      簡單供氣系統

      簡單供氣系統主要針對4英寸及以下半導體芯片廠、半導體材料的科研機構等。它們的制程簡單,通常不需要連續性供氣,對氣體供應系統的投資預算低,生產和管理人員欠缺安全意識。

      由于氣體流量小,特種氣體氣源多采用普通鋼瓶(<50L)。輸送系統多采用半自動氣瓶柜或氣瓶架,配置繼電器控制,自動切換,手動吹掃,手動放空,有害性氣體配備緊急切斷閥。惰性氣體瓶架則采用全手動系統,有些甚至用單瓶系統。共用一個氣體房,甚至沒有氣體房,特氣鋼瓶和輸送系統有時放在回風夾道,或直接放在工藝制造設備旁邊。共用一個抽風系統。

       

      目前PUREGAS可以保證供應的電子氣體主要有:(詳情請點擊)

         氨氣 NH3

         氯化氫 HCl

         甲烷   CH4

         一氧化二氮 N2O

         溴化氫 HBr

         一氧化碳CO

         氖氣 Ne

         氪氣 Kr

         硅烷 SiH4

         三氟化氮 NF3

         四氟化碳 CF4

         三氟化硼 BF3

         六氟化硫 SF6

         三氟甲烷 CHF3

         六氟乙烷 C2F6

         八氟丙烷 C3H8

         八氟環丁烷C4F8

         二氯甲烷 CH2Cl2

         三氯硅烷 SiHCl3

         三氯化硼 BCl3

      數據提供:天助網    
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