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    4. 三氟化氮 NF3
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      三氟化氮在常溫下是一種無色、無臭、性質穩定的氣體,是一種強氧化劑。三氟化氮在微電子工業中作為一種優良的等離子蝕刻氣體,在離子蝕刻時裂解為活性氟離子,這些氟離子對硅和鎢化合物,高純三氟化氮具有優異的蝕刻速率和選擇性(對氧化硅和硅),它在蝕刻時,在蝕刻物表面不留任何殘留物,是非常良好的清洗劑,同時在芯片制造、高能激光器方面得到了大量的運用。


          三氟化氮,分子式:NF<sub>3</sub>。氣體分子量:71.01,熔點:–206.8℃(1atm),沸點:–129℃(1atm),臨界溫度:–39.3℃,臨界壓力:44.02atm(4.46MPa),液體密度:1554 kg/m<sup>3</sup>(1atm,沸點時),氣體密度:2.95 kg/m(1atm,21℃),水中溶解度(1atm,22℃):1.43×10-5當量濃度。純凈的NF3氣體是一種無色無味的氣體,當混入一定量的雜質氣體后顏色發黃,同時會有發霉或刺激性氣味。NF3氣體不可燃,

      但能助燃。當溫度超過350℃時,三氟化氮氣體會緩慢分解,分解時產生強氧化性氟。因此,在高溫下它是一種強氧化劑。CAS號:7783-54-2。危險性類別:第2.3類有毒氣體,在空氣中的最高允許含量為29mg/m

           

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